齋藤巧夢さん （理工学研究科?材料機能工学専攻修士課程2年?半導体工学研究室）

応用物理学会　講演奨励賞

2025年3月14日

AlGaN系UV-B LDの注入効率向上にむけた高Al組成差のヘテロ界面形成技術

応用物理学会講演奨励賞は、春季?秋季講演会において将来の学術的発展が期待される優れた口頭発表を行った満33歳以下の学生だけでなく教員や研究者を含む若手会員に授与される賞です。全発表のうち受賞者は1.5％程度に限られ、厳正な審査を経て選出される、非常に栄誉ある賞とされています。今回の受賞研究では、殺菌や医療、環境モニタリングなど幅広い応用が期待される深紫外レーザーダイオード（UV-B LD）の高効率化に取り組みました。シミュレーションと実験を融合させ、電子の移動を左右する材料界面の急峻性がデバイス性能に与える影響を明らかにし、成長条件の最適化によってしきい値電流密度の低減と安定動作を実現しました。深紫外光源の実用化に向けた重要な成果として高く評価され、今回の受賞に至りました。